髓腔穿孔的修复为牙体牙髓病治疗中的一个难题。在临床上对于髓腔穿孔应有相应完善、可行的防治措施。但目前这一问题在我国受到的重视不够，临床上缺乏专门的技术培训，使之长期处于修复方法欠规范、修复质量低、失败率高的状态。笔者希冀以本次病例报道为未来临床髓腔穿孔修补提供一种新型的治疗思路。

本病例采用“iRoot-BP+富士 IX玻璃离子”修补髓室底穿孔。参照尹世海相关文献中的屏障技术修复法(internal matrix)修补髓室底穿孔^[1]。其又被称为人工底技术(artificial floor techniques），基本概念为选用生物相容性好且能承受一定压力的材料作为屏障材料，将这些材料填入穿孔外的骨吸收区，在平齐根分叉水平或牙根表面形成一道屏障，然后再将修复材料填入穿孔内。屏障的建立为穿孔修补材料提供了良好的操作环境，其有以下优点：1）屏障材料可以支持修补材料的适当加压操作，有利于修补材料填压密实；2）可以有效防止悬突的形成；3）屏障材料可压迫软组织止血及隔绝渗出液，有利于粘接性材料的固化；4）降低了穿孔修复技术支持修补材料的适当加压操作，有利于修补材料填压密实。