2 EUV光刻的发展历程

世界各国的科学家在各种项目的资助下开展了一系列研究。从图中可知，在1986-2016的30年里，EUV光刻经历了初步探索、早期研发、联合研发/供应商技术构建到商业化四个过程。诸多世界顶尖机构为此做出了贡献，例如日本NTT，Hitachi，Nikon，美国AT&T、三大国家实验室（劳伦斯·利弗莫尔国家实验室LLNL、桑迪亚国家实验室SNL、劳伦斯·伯克利国家实验室LBNL），欧洲的Zeiss、ASML等。这些顶尖机构的参与进一步表明EUV光刻的技术难度和强的科学探索与应用意义。EUV光刻技术难度之高，已远远超出独立机构所能解决的范围，因此大量联合研发项目或机构此起彼伏，例如日本的EUVA、ASET、SELETE，美国的EUV LLC，SEMATECH，欧洲的EUCLIDES、MEDEA+等。